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  • 202111-25
    微波等离子去胶机使用注意事项

    静态滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心,滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高和/或基片比较大,往往需要滴较多的胶,以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速...

  • 202110-25
    基本型等离子清洗机的特点和优势如下

    基本型等离子清洗机已应用于各种电子元件的制造,可以确信,没有等离子清洗机及其清洗技术,就没有今日这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外,等离子清洗机及其清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上,而且是产品...

  • 20219-14
    AT-400原子层沉积制备高质量薄膜材料的三大要素

    AT-400原子层沉积是指通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法原子层沉积过程由A、B两个半反应分四个基元步骤进行:1)前驱体A脉冲吸附反应;2)惰气吹扫多余的反应物及副产物;3)前驱体B...

  • 20218-13
    微波等离子去胶机操作简单具有无须干燥处理的特点

    微波等离子去胶机具有操作简单、效过好、无损伤、无划痕、无残留物、表面干净光沾、无须干燥处理的特点。能够去除较难处理的SU-8光刻胶或经列体面改性的长部能工作气体可以采用氧气和氢气的混合物。利用象您气体与5一8光到胶的化学反应能够快速将其去除...

  • 20217-26
    匀胶旋涂机的使用有利于提高涂胶工作的效率

    匀胶旋涂机设备,包括弧形板,储胶区,导流板,支撑柱和固定板,弧形板的弧度与使用的上胶辊外壁相同,弧形板的一侧设置有储胶区,与其对应的另一侧设置有导流区,弧形板顶部中心设置有两个相同的支撑柱,任意支撑柱顶部设置有螺母,任意支撑柱和螺母之间设置...

  • 20214-8
    中国科学院深圳先进技术研究院回流焊炉顺利安装

    德国UniTemp公司生产的RSS-160回流焊炉在中国科学院深圳先进技术研究院深圳先进电子材料国际创新研究院顺利安装成功,通过了学校组织的验收,得到使用者的认可,正式投入科研工作。UniTemp真空回流焊的应用Byung-GilJeong...

  • 202010-12
    低温探针台的基础知识普及

    低温探针台用来无损检测样品的电性能,用于半导体、微电子、固体物理、纳米、超导等研究冷域,是研究材料的电阻率、磁电阻等各种物理特性的有力工具。经济高效,稳定,可靠,方便的改善在极低的真空和温度下对器件和电路的探测。内置振动隔离,智能热管理,使...

  • 20209-4
    光学接触角测量仪可准确测量哪些?

    光学接触角测量仪是一种简单、快速、灵敏的方法测量固体表面的润湿性。且可间接测量固体表面能与液体表面张力。为手动进液、手动滚动角分析型,配置标准为手动型进液系统、标准配置滚动角旋转平台、工业级轮廓镜头、优化的石英玻璃柔光背景光源以及专业级的C...

  • 20208-6
    微波等离子去胶机的操作规程来了解下吧

    微波等离子去胶机采用高密度2.45GHZ微波等离子技术,用于半导体生产中晶圆的清洁、去胶和等离子体预处理,微波等离子体清洗、去胶机具有高度活性、高效,且不会对电子装置产生离子损害。它是石英腔的微波等离子系统,可以安装到超净间墙上。该系列的微...

  • 20207-13
    匀胶旋涂仪多重安全保护

    匀胶旋涂仪的工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,甩胶机常用于各种溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。其适应于半导体、化工材料、硅片、晶...

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