热重分析质谱仪就是将热重分析仪（TGA）与质谱仪联用，可以检测到非常低含量的杂质，这一手段越来越受欢迎。然而，在实时监测时，TG-MS联用会因多重反应同时发生或者高质量离子掩盖低质量的而使结果变得混乱复杂。在此体系中加入气相（GC），多重反...

基本型等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子...

去胶工艺是微加工工艺过程中一个非常重要的工艺环节。在光刻工艺之后，我们往往需要面临显影后的底胶去除或者干法蚀刻工艺后变性的光刻胶的去除工作，这些环节中光刻胶去除的是否干净*以及对样片是否有损伤等将直接影响到后续工艺的进行以及器件的性能。微波...

气体流量混合器在工业和科学上都有重要的意义。流量测量是一门迅速发展的技术，为了满足各行各业、各种工况的各种流体的流量测量需要，仪表研究机构研究开发了各种原理的流量计，制造厂每年都有新型流量计供应市场。流量计是工业测量中重要的仪表之一。需要测...

激光二极管测试仪器是针对二极管分选设备而专门设计配套的智能型测试仪器，主要用于二极管在恒定电流时其两端的正向电流电压，反向恒压时测量其反向漏电流。仪器也可以用作一般直流电压源、电流源使用，因此是一种多功能、多用途的实验室仪器。仪器精度高速度...

静态滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心，滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度比较高和/或基片比较大，往往需要滴较多的胶，以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速...

基本型等离子清洗机已应用于各种电子元件的制造，可以确信，没有等离子清洗机及其清洗技术，就没有今日这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外，等离子清洗机及其清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上，而且是产品...

AT-400原子层沉积是指通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法原子层沉积过程由A、B两个半反应分四个基元步骤进行：1）前驱体A脉冲吸附反应；2）惰气吹扫多余的反应物及副产物；3）前驱体B...

微波等离子去胶机具有操作简单、效过好、无损伤、无划痕、无残留物、表面干净光沾、无须干燥处理的特点。能够去除较难处理的SU-8光刻胶或经列体面改性的长部能工作气体可以采用氧气和氢气的混合物。利用象您气体与5一8光到胶的化学反应能够快速将其去除...

匀胶旋涂机设备，包括弧形板，储胶区，导流板，支撑柱和固定板，弧形板的弧度与使用的上胶辊外壁相同，弧形板的一侧设置有储胶区，与其对应的另一侧设置有导流区，弧形板顶部中心设置有两个相同的支撑柱，任意支撑柱顶部设置有螺母，任意支撑柱和螺母之间设置...