微波等离子去胶机采用高密度2.45GHZ微波等离子技术，用于半导体生产中晶圆的清洁、去胶和等离子体预处理，微波等离子体清洗、去胶机具有高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。它是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微...

匀胶旋涂仪的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，甩胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。其适应于半导体、化工材料、硅片、晶...

等离子清洗机的关键是低温等离子体的应用，它主要依赖于高温、高频、高能等外界条件产生，是一种电中性、高能量、全部或部分离子化的气态物质。低温等离子体的能量约为几十电子伏特，其中所包含的离子、电子、自由基等活性粒子以及紫外线等辐射线很容易与固体...

紫外光功率计能直接测量特定波长的紫外光。采用了紫外传感器（光电管），以保证稳定的长时间的紫外测量，并且基于国家标准结合控制器进行了校准。可拆卸型传感头包含了用于紫外测量的可更换电池和数据内存，能对传送带上或布线困难的地方进行遥控测量。除了能...

石英晶体微分析仪是非常灵敏的质量传感器，可在液体与气体中使用。我们Boinst的耗散型石英晶体微天平分析仪通过MicroUSB手机数据线与电脑连接即可实现数据的采集与分析，简单易用，可作为实验室的标准的科研仪器，也可作为便携式传感器，方便携...

高真空热蒸发镀膜仪一种超真空蒸发涂布机，设计用于涂覆氧气敏感的金属材料，如Ti、Al和Ir等。它还可用于涂覆各种材料。产品有四个蒸发加热器源，同时在高达10-6托的高真空下涂覆两种材料。对于研究实验室来说，它是一种具有成本效益的涂膜机。特别...

等离子清洗机通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。清洗机中的等离子体与自然界产生的等离子体本质上是一样的...

高真空热蒸发镀膜仪主要由有机/金属蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。高真空热蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产...

快速退火炉是集巧妙的结构设计和*的加热方式于一体，使得体积和功率都大幅减小的同时，升降温速率却比传统退火炉提升了数倍之多。它既可以通气氛又可以抽真空，满足了很多用户对小样品快速退火的工艺要求。快速退火炉采用蓄热式燃烧系统，PLC控制炉温炉压...

基本型等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核...