GSC-1000磁控溅射系统概述： 带有水冷或者加热（高可加热到700度）功能，大到6“旋转平台，大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。