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    GSC-1000磁控溅射系统

    GSC-1000磁控溅射系统概述: 带有水冷或者加热(高可加热到700度)功能,大到6“旋转平台,大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    更新时间:2019-01-15型号:GSC-1000浏览量:906
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