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GSC-1000磁控溅射系统的详细资料

GSC-1000磁控溅射系统​

GSC-1000磁控溅射系统概述:

带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6"旋转平台,最大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

产品特点:

  • 不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔

  • 70l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵

  • 1KW DC直流电源

  • 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

  • 带观察视窗的腔门易于上下载片

  • 基于LabView软件的PC计算机控制

  • 带密码保护功能的多级访问控制

  • 完全的安全联锁功能

    选配项:
    Thickness Monitor   膜厚监测
     

    应   用:

    • SEM应用

    • 溅射金属,最大到6"的晶圆片

     

     

     

                                                                                           

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