Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统

PECVD沉积可选配一个三极管（Triode）或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子，从而控制薄膜应力。

GSC-1000磁控溅射系统概述： 带有水冷或者加热（高可加热到700度）功能，大到6“旋转平台，大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

Trion Orion III PECVD薄膜沉积系统可以在紧凑的平台上生产高品质的薄膜。*的反应器设计可以在在极低的功率生产具有优异台阶覆盖的低应力薄膜。该系统可以满足实验室和中试生产环境中的所有安全，设施和工艺标准要求。

德国韦氏纳米系统专门为大学，研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。