匀胶旋涂仪的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，甩胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。其适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。
匀胶机被设计为结构紧凑、简单易用，可多步程控操作，尺寸小巧，易于放入手套箱内操作。EZ4采用全阳极氧化铝面板外壳，PP材料内腔，经久耐用。匀胶机设计标准为结构紧凑、简单易用，程控操作，且能够升级自动点胶功能，尺寸上可从通用的手套箱过渡舱内进出，具有优异的性价比。亦可提供分体式设计，进行嵌入式安装，与手套箱进行配合。
匀胶旋涂仪产品特点:
*采用闭环控制伺服电机，数字式增速信号反馈，速匀准确，寿命长，保证匀胶均匀。
*5寸全彩触摸屏，智能程序化可编程操控显示，标配10个匀胶梯度阶段（速度和时间梯度设置），可选配10个可编程程序，每个程序下可设置10个匀胶梯度阶段，多100个阶段。
*内置水平校准装置，较大限度的保证旋涂均匀，可对大小不同规格的基片进行旋涂。
*多重安全保护
电磁安全开关，盖子打开卡盘停止，保证安全；
盖子自锁功能，防止飞片盖弹开伤人；
双重安全上盖，聚四氟嵌镶钢化玻璃，避免单一玻璃或者亚克力上盖飞片伤人，大限度保证实验人员安全。
*一机两用，根据不同样品可选真空吸盘和非真空卡盘两种旋涂模式。
*不锈钢喷塑涂层旋涂壳体，PTFE旋涂腔体，聚丙烯（NPP-H）旋涂托盘，PTFE嵌镶钢化玻璃上盖，耐酸碱防腐蚀，保证仪器在苛刻条件下仍能正常运行。
*适用硅片、玻璃、石英、金属、GaAs，GaN，InP 等多种材料。
匀胶旋涂仪适用于半导体工艺，制版及表面涂覆等工艺，可在科研、教育等单位作科研、教学之用，其总体设计由汶颢股份独立开发完成，是具有自主 知识产权的高新技术产品。 匀胶机快速启动和稳定的转速，能够保证胶厚度的一致性和均匀性。
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