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  • NSC-1000磁控溅射系统
    NSC-1000磁控溅射系统

    NSC-1000磁控溅射系统:带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    更新时间:2017-03-03型号:浏览量:1169
  • NSC-3000(M)磁控溅射系统
    NSC-3000(M)磁控溅射系统

    NSC-3000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    更新时间:2017-03-03型号:浏览量:1155
  • NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统
    NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统

    NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统:台式自动系统,带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    更新时间:2017-03-03型号:浏览量:1199
  • NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机
    NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机

    NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机:*进的全自动溅射系统带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能的8“旋转样平台,Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关,RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    更新时间:2017-03-03型号:浏览量:2867
  • NSC-3500(M)磁控溅射系统
    NSC-3500(M)磁控溅射系统

    NSC-3500(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到8“旋转平台,Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    更新时间:2017-03-03型号:浏览量:1186
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