NSC-1000磁控溅射系统：带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-3000（M）磁控溅射系统：带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-3000（A）全自动磁控溅射系统：台式自动系统，带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机：*进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能的8“旋转样平台,Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关，RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-3500（M）磁控溅射系统：带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到8“旋转平台，Z大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。