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NSC-1000磁控溅射系统的详细资料

磁控溅射技术

NSC-1000磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(zui高可加热到700度)功能,zui大到6"旋转平台,zui大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-1000带有10"派热克钟罩腔体,22"的磁控管,DC直流电源用于溅射金属,并带有膜厚监测仪(选配)。由于NSC-1000的空间有限,我们不能在NSC-1000系统上提供更多的电源和磁控管。我们可以提供我们的NSC-1000系统,用于SEM应用,也可以用于溅射金属到zui大6"的晶圆片。

NSC-1000磁控溅射系统产品特点:

  • 不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
  • 70l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
  • 1KW DC直流电源
  • 晶振夹具具有的<1 Å的厚度分辨率
  • 带观察视窗的腔门易于上下载片
  • 基于LabView软件的PC计算机控制
  • 带密码保护功能的多级访问控制
  • 完全的安全联锁功能

选配项:

  • Thickness Monitor   膜厚监测

应用:

  • SEM应用
  • 溅射金属,zui大到6"的晶圆片

 

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