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NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机的详细资料

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机产品特点:

  • 不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
  • 70,250或500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
  • 13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
  • 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
  • 带观察视窗的腔门易于上下载片
  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
  • 带密码保护功能的多级访问控制
  • *的安全联锁

选配项:

  • 向上、向下或侧面溅射
  • RF、DC以及脉冲DC溅射
  • 共溅射、反应溅射
  • 组合溅射
  • RF或DC偏压(1000V)
  • 样品台可加热到700°C
  • 膜厚监测仪
  • 基片的RF射频等离子清洗
  • 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

应用:

  • 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
  • 光学以及ITO涂覆
  • 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
  • 带RF射频等离子放电的反应溅射

型号:

  • NSC-4000:基于PC计算机全自动控制的独立式系统
  • NSC-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统
  • NSC-3000:PC计算机全自动控制的台式系统
  • NSC-1000:半自动控制的台式系统

(以下为双系统型号)

  • NSR-4000:溅射/RIE系统
  • NSP-4000:溅射/PECVD系统
  • NST-4000:溅射/热蒸发系统
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德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

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