欢迎您来到德国韦氏纳米系统(香港)有限公司网站!
产品中心 / products 您的位置:网站首页 > 产品中心 > Etching/等离子蚀刻系统 > 等离子刻蚀ICP
相关文章

Related articles

  • Minilock-Phantom III ICP等离子刻蚀ICP
    Minilock-Phantom III ICP等离子刻蚀ICP

    等离子刻蚀ICP基片通过预真空室装入。其避免与工艺室以及任意残余刻蚀副产品接触,从而提高了用户安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而隔绝外部湿气,防止反应室内可能发生的腐蚀。

    更新时间:2024-06-17型号:Minilock-Phantom III ICP浏览量:2065
共 1 条记录,当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
18721247059

联系我们

contact us

咨询电话

400-9999-18518721247059

扫一扫,关注我们

返回顶部