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  • 20232-23
    激光二极管测试仪器是当前常用的激光仪器之一

    激光二极管是当前常用的激光器之一,在二极管的PN结两侧电子与空穴的自发复合而发光的现象称为自发辐射。当自发辐射所产生的光子通过半导体时,一旦经过已发射的电子—空穴对附近,就能激励二者复合,产生新光子,这种光子诱使已激发的载流子复合而发出新光...

  • 202212-12
    光学接触角测量仪的这些知识值得我们学习

    光学接触角测量仪并不复杂,通俗的说,就是液滴在固体表面自然形成的半圆形态相对于固体平面的外切线。接触角的应用非常广泛,甚至可以说涉及到身边的每个细节,比如我们希望汽车玻璃上不沾雨水、但反之我们希望汽车钢板上的油漆不脱落。其他比如农药和蔬菜叶...

  • 202211-15
    匀胶显影系统是一种用于信息科学的工艺试验仪器

    匀胶显影系统是一种用于信息科学与系统科学、物理学、工程与技术科学基础学科、材料科学领域的工艺试验仪器,涂胶显影设备是芯片制程中不可少的处理设备,利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工,与光刻机达成配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等...

  • 20229-15
    薄膜反射仪的这些性能,你可能还不太了解

    薄膜反射仪主要用于建筑节能领域外墙热反射涂料、节能玻璃、油漆、金属等材料的现场太阳反射比测量,同时也适用于涂料、油漆等材料的配方研发及生产测试,可以同时面向工程现场检测和实验室检测。具有性价比高,测量快速、准确,操作简单,携带方便等特点,配...

  • 20228-18
    湿法刻蚀系统的工艺主要包括三部分

    湿法刻蚀系统工艺主要包括三部分:硫酸、硝酸、氢氟酸氢氧化钾氢氟酸本工艺过程中,硝酸将硅片背面和边缘氧化,形成二氧化硅,氢氟酸与二氧化硅反应生成络合物六氟硅酸,从而达到刻蚀的目的。刻蚀之后经过KOH溶液去除硅片表面的多孔硅,并将从刻蚀槽中携带...

  • 20227-18
    湿法刻蚀系统是一个纯粹的化学反应过程

    湿法制粒(wetgranulation)是在药物粉末中加入液体粘合剂,靠粘合剂的架桥或粘结作用使粉末聚结在一起而制备颗粒的方法。由于湿法制粒的产物具有外形美观、流动性好、耐磨性较强、压缩成形性好等优点,在医药工业中的应用广泛。而对于热敏性、...

  • 20226-16
    关于AT-400原子层沉积的相关内容介绍

    AT-400原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原了层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。原子层淀积(AL...

  • 20225-17
    热重分析质谱仪的这些知识值得我们学习

    热重分析质谱仪就是将热重分析仪(TGA)与质谱仪联用,可以检测到非常低含量的杂质,这一手段越来越受欢迎。然而,在实时监测时,TG-MS联用会因多重反应同时发生或者高质量离子掩盖低质量的而使结果变得混乱复杂。在此体系中加入气相(GC),多重反...

  • 20224-21
    基本型等离子清洗机是一种等离子表面处理仪器

    基本型等离子清洗机也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子...

  • 20223-28
    微波等离子去胶机遇到以下几种情形我们需要注意

    去胶工艺是微加工工艺过程中一个非常重要的工艺环节。在光刻工艺之后,我们往往需要面临显影后的底胶去除或者干法蚀刻工艺后变性的光刻胶的去除工作,这些环节中光刻胶去除的是否干净*以及对样片是否有损伤等将直接影响到后续工艺的进行以及器件的性能。微波...

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