湿法刻蚀系统是一个纯粹的化学反应过程

　　湿法制粒(wetgranulation)是在药物粉末中加入液体粘合剂，靠粘合剂的架桥或粘结作用使粉末聚结在一起而制备颗粒的方法。由于湿法制粒的产物具有外形美观、流动性好、耐磨性较强、压缩成形性好等优点，在医药工业中的应用广泛。而对于热敏性、湿敏性、极易溶性等特殊物料可采用其它方法制粒。
 

　　湿法刻蚀系统是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。其特点是选择性好、重复性好、生产效率高、设备简单、成本低。蚀种类很多，包括光挥发、气相腐蚀、等离子体腐蚀等。
 

　　湿法刻蚀系统主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分：
 

　　(1)预真空室
 

　　预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境(如：粉尘、水汽)的影响，将危险性气体与洁净厂房隔离开来。它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。
 

　　(2)刻蚀腔体
 

　　刻蚀腔体是ICP 刻蚀设备的核心结构，它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响。刻蚀腔的主要组成有：上电极、ICP 射频单元、RF 射频单元、下电极系统、控温系统等组成。
 

　　(3)供气系统
 

　　供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体，通过压力控制器(PC)和质量流量控制器(MFC)精准的控制气体的流速和流量。气体供应系统由气源瓶、气体输送管道、控制系统、混合单元等组成。
 

　　(4)真空系统
 

　　真空系统有两套，分别用于预真空室和刻蚀腔体。预真空室由机械泵单独抽真空，只有在预真空室真空度达到设定值时，才能打开隔离门，进行传送片。刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供，刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。