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  • 202111-15
    Harrick等离子清洗机的运行过程如下

    Harrick等离子清洗机为一种绿色无污染的高精密干法清洗方式,可以有效去除表面污染物,避免静电损伤。在集成电路的制程中,会产生许多种类的污染物,包括氟化树脂、氧化物、环氧树脂、焊料、光刻蚀剂等,这些污染物将严重影响集成电路及其元器件的可靠...

  • 202110-18
    高功率等离子清洗机的运行过程如下

    高功率等离子清洗机采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵,工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清...

  • 20219-26
    微波等离子去胶机的使用方法

    微波等离子去胶机是一个典型的匀胶过程,其中包括滴胶,高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上,高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成簿层,干燥这一步除去胶层中多余的溶剂。两种常用的滴胶方式是静态滴胶和动态滴胶。静态...

  • 20218-24
    刻蚀显影清洗系统清洗流程解析

    在平板显示产品的制程中,随着工艺层数的增加和产品精度的提高,光刻制程相比过去显得越发重要。在光刻制程的过程中,显影单元作为刻蚀设备的主要单元之一,将曝光区域或未曝光区域进行溶解,以保留另外区域,从而将图案显现出来。显影单元在显影制程中需循环...

  • 20217-23
    等离子清洗机是利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果

    等离子清洗机也叫等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清...

  • 202010-24
    总结等离子清洗机的基本内容

    等离子清洗机在清洗时通入工作气体在电磁场的作用下所激发的等离子与物体表面产生物理反应和化学反应。其中,物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面,使污染物脱离表面终被真空泵吸走;化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质,再由真空...

  • 20209-18
    霍尔效应测试仪的相关内容普及

    霍尔效应测试仪介绍:基本原理:利用霍尔效应可以测量半导体材料的导电特性,从而获得载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数、导电类型等重要参数。当电流垂直于外磁场通过导体时,载流子发生偏转,垂直于电流和磁场的方向会产生一附加电场,从而在导体的两端...

  • 20208-14
    快速退火炉是节能型周期作业退火炉

    快速退火炉可选择单设定点或30段可编程控制快速退火炉器。节能型的陶瓷纤维材料和双层结构,可将外表温度降到常温。均温区长,操作简便,密封可靠,综合性能指标较高。炉管可选择配置耐热钢、石英玻璃、陶瓷管等材料。其的主要特点有:可在真空/不同气氛/...

  • 20207-24
    石英晶体微分析仪两种使用模式

    石英晶体微分析仪在液体中的应用展示了巨大的潜力。QCM在功能化表面测量绑定事件是非常有效的,比如抗体-抗原绑定,蛋白间反应。仪器在生命科学领域是非常强大的工具,可以检测DAN杂化与*的药物化合物,以上仅仅是部分应用,更多的应用取决于你想在实...

  • 20206-23
    匀胶旋涂机使用步骤分析解读

    匀胶旋涂机的工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,甩胶机常用于各种溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。匀胶旋涂机适应于半导体硅片,载玻片...

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