Harrick等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子来达到传统清洗方法无法达到的效果。等离子体是一种物质状态，也称为第四种物质状态。向气体施加足够的能量使其电离，使其变成等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括离子、电子、活性基团、...

微波等离子去胶机是在（RIE）反应离子刻蚀机的基础上简化改进而来，为小型等离子去胶机，具有体积小，性能优良、用途多、工艺速率高、均匀性及重复性好、价格低、使用方便等特点。是各电子器件企业及科研单位、大专院校的机型。适合于微电子制作工艺中光刻...

热重分析是指在程序控制温度下测量待测样品的质量与温度变化关系的一种热分析技术，用来研究材料的热稳定性和组份。热重分析在研发和质量控制方面都是比较常用的检测手段，在实际的材料分析中经常与其他分析方法连用，进行综合热分析，全面准确分析材料。实验...

PDC-002等离子清洗机包含PAC、PPC、HPC和SCE，可以满足实验室到工业的应用、从低温处理到带冷却处理的应用、从铝质腔体到石英腔体的应用、从简单紧凑的设备到可以通过软件进行延展的应用，等等。该等离子清洗机，作为蚀刻系统，主要用在工...

等离子清洗机真空泵原理是两个电极之间形成高频交变电场，用真空泵在装置的密闭容器中实现一定的真空度随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也越来越长，区域内气体在交变电场的激荡下，形成等离子体。在真空和瞬时高温状态下，活性等离子...

Harrick等离子清洗机为一种绿色无污染的高精密干法清洗方式，可以有效去除表面污染物，避免静电损伤。在集成电路的制程中，会产生许多种类的污染物，包括氟化树脂、氧化物、环氧树脂、焊料、光刻蚀剂等，这些污染物将严重影响集成电路及其元器件的可靠...

高功率等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清...

微波等离子去胶机是一个典型的匀胶过程，其中包括滴胶，高速旋转以及干燥（溶剂挥发）几个步骤。滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上，高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成簿层，干燥这一步除去胶层中多余的溶剂。两种常用的滴胶方式是静态滴胶和动态滴胶。静态...

在平板显示产品的制程中，随着工艺层数的增加和产品精度的提高，光刻制程相比过去显得越发重要。在光刻制程的过程中，显影单元作为刻蚀设备的主要单元之一，将曝光区域或未曝光区域进行溶解，以保留另外区域，从而将图案显现出来。显影单元在显影制程中需循环...

等离子清洗机也叫等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清...