刻蚀显影清洗系统清洗流程解析

　　在平板显示产品的制程中，随着工艺层数的增加和产品精度的提高，光刻制程相比过去显得越发重要。在光刻制程的过程中，显影单元作为刻蚀设备的主要单元之一，将曝光区域或未曝光区域进行溶解，以保留另外区域，从而将图案显现出来。显影单元在显影制程中需循环使用显影液，即显影液在将基板上部分光刻胶溶解后回流到显影槽。随着显影液的使用次数的增加，显影液中光刻胶的成分升高，久而久之，显影槽的四周的内壁会残留反应后的光刻胶。由于残留的光刻胶会影响显影槽内的洁净度，严重时会直接污染产品，使显影槽需定期清洁。

　　刻蚀显影清洗系统流程：脱脂→水洗→微蚀→水洗→酸洗→水洗→烘干。化学清洗的目的：获得一层洁净、新鲜的铜面。使铜面具有一定的粗糙度，增加板面与干膜的结合力。该系统包括壳体、主管道、喷淋管路、电磁阀、喷淋装置、排液管道以及快速供液管道，壳体具有显影槽；主管道的一端伸入壳体内并与显影槽连通，主管道用于供给显影液；喷淋管路包括相连通的喷淋管道主体和支管道，喷淋管道主体与主管道连通；电磁阀设置于支管道上。

　　喷淋装置与支管道的背离喷淋管路主体的端部连通，喷淋装置设置于壳体上，且喷淋装置位于显影槽内，喷淋装置用于在清洗显影槽时喷洒显影液；排液管道与显影槽连通。排液管道用于在清洗显影槽之后排出显影槽内的显影液，使显影液快速排出壳体之外，整个清洗过程中无需打开密封盖，避免了显影单元存在严重的质量和安全隐患的问题。

　　刻蚀显影清洗系统显影机：感光膜中未曝光部分的活性基团与稀碱溶液反应生成可溶性物质而溶解下来，显影时活性基团羧基一COOH与无水碳酸钠溶液中的Na+作用，生成亲水性集团一COONa。从而把未曝光的部分溶解下来，而曝光部分的干膜不被溶胀。显影点控制；显影点离显影段出口太近，未聚合的抗蚀膜得不到充分的清洁显影，抗蚀剂的残余可能留在板面显影点离显影段的入口太近，已聚合的于膜由于与显影液过长时间的接触，可能被浸蚀而变得发毛，失去光泽。通常显影点控制在显影段总长度的50%-60%之内。