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刻蚀显影清洗系统的详细资料

  刻蚀显影清洗系统是一套脱机系统,在一个封闭的清洗室内清洗网纹辊,并由计算机控制。该系统包含一个回收装置,去除废料,清洗介质的表面,并允许塑料介质可以重复多次使用。该系统具有分别处理窄滚筒、中等幅宽滚筒和宽至95英寸的滚筒的机构,可以满足各种不同的印刷需求。
  刻蚀显影清洗系统特点:
  1. CIP在位清洗系统的经济运行成本低,结构紧凑,占地面积小.安装.维护方便,能有效地对缸罐容器及管道等生产设备进行就地清洗,其整个清洗过程均在密闭的生产设备,缸罐容器和管道中运行,从而大大减少了二次污染机会。
  2. 可根据生产需要分为一路至四路。尤其是二路及二路以上,既能分区同时清洗同一个或二个以上区域,也能在生产过程中边生产边清洗。这样在生产时就大大缩短了CIP清洗的 全自动CIP清洗系统时间。
  3. 体外循环系统,可有效减少能耗。
  4. 回水系统,可有效减少CIP用水。
  5. 尤其是,能对清洗液进行自动检测.加液.排放.显示与调整,对其运行可靠,自动化程度高,操作简单,CIP清洗效果好,因而更符合现代大规模流体药品.食品加工工艺的卫生要求及生产环境要求。
  被广泛的用于饮料、乳品、果汁、果浆、果酱、酒类等机械化程度较高的食品饮料生产企业中。就地清洗简称CIP,又称清洗定位或定位清洗(cleaning in place)。就地清洗是指不用拆开或移动装置,即采用高温、高浓度的洗净液,对设备装置加以强力作用,把与食品的接触面洗净,对卫生级别要求较严格的生产设备的清洗、净化。

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

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