带你深入了解下匀胶旋涂仪

　　匀胶旋涂仪采用创新设计的托盘，无需真空泵或充氮气，就能达到很好的旋涂效果；内置调整水平装置，较大限度的保证旋涂均匀；可对大小不同规格的基片进行旋涂。匀胶旋涂仪随意任意时间范围的加减速，可重复性达到+/-0.5RPM，分辨率小于0.5RPM；这一系列的旋转涂膜仪上的液晶显示屏可以实时读取任意速度状态。
　　匀胶旋涂仪主要用于液体，胶体在材料表面薄膜的形成，适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研，教育，生产中应用。匀胶旋涂仪主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上匀胶等工艺与光刻、烘烤等设备配合使用。匀胶旋涂仪能满足各类以下尺寸的基片处理要求，并配制相应的托盘夹具。验收除按卖方提供的标准基片外，另外可根据买方要求的 10mm 的碎片和 4 英寸的晶圆片等验收试验要求。
　　匀胶旋涂仪的特点：
　　1、该匀胶机采用德国先进技术：
　　2、匀胶机采用NPP天然聚丙烯材质构造设计，这种材质有很好的抗腐蚀性和抗化学物性，美观大方；
　　3、匀胶旋涂仪真空Chuck经精密加工制成，具有良好的光洁度及平整度，保证晶圆片被很好地吸附，主轴采用进口微型单列向心球轴承支撑，轴向有弹性垫及调整垫，可保障主轴具有较高的精度。
　　4、在安装结构上，采取了减振措施，保证了在运转时噪音很低，保证涂覆表面均匀，保证通过调节转速调节涂覆厚度。
　　5、匀胶旋涂仪腔体配备吹氮(N2)功能，或压缩空气、氮气压力可通过调压阀和节流阀实现调节，与配套真空泵一同使用。
　　匀胶旋涂仪在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。