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带你深入了解下匀胶旋涂仪

2018-11-22

  匀胶旋涂仪采用创新设计的托盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果;内置调整水平装置,较大限度的保证旋涂均匀;可对大小不同规格的基片进行旋涂。匀胶旋涂仪随意任意时间范围的加减速,可重复性达到+/-0.5RPM,分辨率小于0.5RPM;这一系列的旋转涂膜仪上的液晶显示屏可以实时读取任意速度状态。
  匀胶旋涂仪主要用于液体,胶体在材料表面薄膜的形成,适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研,教育,生产中应用。匀胶旋涂仪主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上匀胶等工艺与光刻、烘烤等设备配合使用。匀胶旋涂仪能满足各类以下尺寸的基片处理要求,并配制相应的托盘夹具。验收除按卖方提供的标准基片外,另外可根据买方要求的 10mm 的碎片和 4 英寸的晶圆片等验收试验要求。
  匀胶旋涂仪的特点:
  1、该匀胶机采用德国先进技术:
  2、匀胶机采用NPP天然聚丙烯材质构造设计,这种材质有很好的抗腐蚀性和抗化学物性,美观大方;
  3、匀胶旋涂仪真空Chuck经精密加工制成,具有良好的光洁度及平整度,保证晶圆片被很好地吸附,主轴采用进口微型单列向心球轴承支撑,轴向有弹性垫及调整垫,可保障主轴具有较高的精度。
  4、在安装结构上,采取了减振措施,保证了在运转时噪音很低,保证涂覆表面均匀,保证通过调节转速调节涂覆厚度。
  5、匀胶旋涂仪腔体配备吹氮(N2)功能,或压缩空气、氮气压力可通过调压阀和节流阀实现调节,与配套真空泵一同使用。
  匀胶旋涂仪在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。

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