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Harrick等离子清洗机的结构组成

2017-10-20

   Harrick等离子清洗机采用电感耦合高密度等离子体(ICP),能快速去除晶圆上之残留光阻(光刻胶),达到晶圆表面洁净,Harrick等离子清洗机具有蚀刻率高,无电极污染,离子能量低,不损伤基板等优点。

  Harrick等离子清洗机的结构组成,主要都是由两个部分组成:
  一是,等离子发生器,该部分由集成电路、运行控制、等离子发生电源、气源处理、安全防护等组成。
  二是,等离子处理装置,该部分由激发电极、激发气路等组成。
  Harrick等离子清洗机预处理工艺的优点:
  1、表面活化非常有效而且均匀,所处理的表面上不会有热量累积。
  2、无外壳变形
  3、可降低壁厚,节省了材料
  4、可以处理整个粘接面,包括胶槽底部和侧壁
  5、整个接合表面的预处理,包括凹槽的根部和侧壁
  Harrick等离子清洗机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这时会发出辉光,故称为辉光放电处理。 辉光放电时的气压大小对材料处理效果有很大,影响另外与放电功率,气体成分及流动速度、材料类型等因素有关。

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