匀胶旋涂机工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,匀胶旋涂机常用于各种溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。可以设定多达20个程序段来存储不同材料的制备过程,每个程序段都能设定51步速度改变,当前参数具断电保护功能。
从匀胶旋涂机原理来说,我们可以看出选购匀胶旋涂机需要注意的几个细节:
1、 旋转速度:转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大,对于要求精密涂覆的科研人员来说是无法获得准确的实验数据的。国产的某些匀胶旋涂机只能提供转速范围,并不能标定实时的转速。进口的匀胶旋涂机虽然大部分能标定转速,但是大部分转速精度没有标准认定。建议购买转速控制方面有认定标准的,比如:美国NIST标准等。
2、 真空吸附系统的构造
真空泵一定要无油的,压力标定准确,国内生产的无油真空泵实在不敢恭维。因为任何的油污都可能堵塞真空管道,如果真空吸附力降低,会导致基片吸附不住而产生“飞片”的情况,还会让滴胶液不慎进入真空管道系统造成*堵塞。用过国产匀胶旋涂机的客户常常会关心怎么清洗的问题,这一点许多国外的匀胶旋涂机做得不错,他们有通过联动机制,如果真空吸附力不够的时候,不会开始旋转。
3、 材质的选择
对于半导体化工行业的应用来说,材质的选择尤为关键,大部分匀胶旋涂机采用的是不锈钢或者普通塑料材质,因为这种材质的成本很低,不锈钢的对于各类化工胶液的抗腐蚀性不太好,塑料对于较高温度和压力下易产生变形。如果这种变形引起托盘的位置失去水平的话,将会导致旋涂时,时高时低的颠簸状态。自然无法得到好的旋涂效果。例如美国等型号都是采用天然聚丙烯(NPP)或者聚四氟乙烯(特氟隆,PTFE)材质。这两种材质具备绿色环保、节约资源、重量轻、强度大、抗冲击性能好、坚固耐用、花纹自然、光泽度好等优点。
匀胶旋涂机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆。匀胶旋涂机具有稳定的转速和快速的启动,可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性,这正是匀胶旋涂机的特点。