微波等离子去胶机概述：Q系列等离子清洗机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含：大剂量离子注入后的光刻胶去除；干法刻蚀工艺的前处理或后处理；MEMS制造中的牺牲层去除。
微波等离子去胶机产品优势：
1.去胶快速*
2.对样片无损伤
3.操作简单安全
4.设计紧凑美观
5.产品性价比高
微波等离子去胶机产品用途：
1.高剂量离子注入光刻胶的去除
2.湿法或干法刻蚀前后的去残胶
3.MEMS中牺牲层的去除
4.去除化学残余物
5.清除浮渣工艺
微波等离子去胶机是半导体工业及从事微纳加工工艺研究的必要设备，主要用于半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中，各类光刻胶的干法去除、基片清洗和电子元件的开封等。微波等离子去胶机主要应用：等离子体表面改性、有机物表面等离子体清洁、等离子体刻蚀应用、 等离子体灰化应用、增强或减弱浸润性等。
您的位置：
地址：香港九龍尖沙咀漆咸道45-51號
邮箱：Sales@firstnano.de
传真：400-9999-185
咨询电话