湿法刻蚀系统和干法刻蚀系统的优缺点对比

 　　湿法刻蚀系统用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。湿法刻蚀系统的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的较大化支持理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。