欢迎您来到德国韦氏纳米系统(香港)有限公司网站!
技术文章 / article 您的位置:网站首页 > 技术文章 > 匀胶显影系统的生产工艺流程
产品中心

product center

匀胶显影系统的生产工艺流程

发布时间: 2018-08-27  点击次数: 2670次
  匀胶显影系统具有可编程阀,它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻、显影和清洗应用的要求重复进行,如冲洗(通常是去离子水或溶剂),然后干燥(通常是氮气)等后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在*干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。蚀刻/显影/清洗全套系统还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。匀胶显影系统是在半导体集成电路生产线中用于对基片进行涂胶、显影工艺的关键设备。
  匀胶显影系统主要用于光刻工艺前后的匀胶与显影步骤,是微纳加工的重要组成部分。匀胶显影系统典型的生产工艺流程为:成膜工艺(氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:溅射/电镀/掺杂:扩散 注入 退火)→光刻图形(旋涂/光刻/显影)→干法/湿法/ 刻蚀(湿法刻蚀/硅刻蚀/SiO刻蚀/去胶清洗/金属刻蚀/金属剥离/RCA清洗)。
  匀胶显影系统特性优点:
  1.主机在SC100-SE匀胶机上升级,增加耐腐蚀高分子材料防溅式罩盖
  2.全程序编辑功能,更方便的智能化操作,更好的显影/清洗效果
  3.可实现多独立四路喷液用于显影/清洗工作,或进行氮气吹干
  4.控制器可实现程序自动控制喷液或进行手动操作,使用更加方便
  5.显影系统可进行喷雾式、柱流式多种选择,视要求进行配置
  6.提供客户定制化的显影系统配置和工装设计
  7.高可靠性和重复性,高转速精度和更高转速可选
  8.可添加去边胶和背胶清洗功能
  匀胶显影系统设备适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般涂胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。