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NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD的详细资料

NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD

NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD概述:

    针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有加热的气体管路、5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、950度样品台三个气体环、PC全自动控制、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、 250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空),完全的安全互锁。

    目前,NANO-MASTER(那诺-马斯特)的这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD型号:

  • 应用:绿光LED(GaN, InGaN, AlGaN, ...)
  • 台式系统
  • 5个带独立冷却槽的起泡器
  • 加热的气体管路
  • 950 °C样品台,2"晶圆片
  • 3个气体环
  • RF等离子源,带淋浴头气体分布
  • 工艺完成后N2自动冲洗
  • 极限真空5x10-7Torr
  • 250 l/s的涡轮分子泵串接无油干泵
  • 通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
  • 菜单驱动,4级密码访问控制
  • 完整的安全联锁

NMC-4000PAMOCVD等离子辅助MOCVD

  • 独立系统
  • 14"不锈钢立方体腔体
  • 1次在8"样品台上处理1个6"晶圆片或在12"样品台上处理5片4"片子
  • 加热的气体管路
  • RF等离子源,自动调谐
  • 淋浴头气体分布
  • 1100°C的旋转样品台
  • N2冲洗
  • 手动或自动的晶圆片上下载
  • 可以兼容到集群配置中

 

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