德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

您当前的位置:>> 首页 >>产品中心 >>Deposition沉积系统 >>PLD脉冲激光沉积 >>NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统
产品中心
打印 字体缩放

NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统的详细资料

PLD激光脉冲沉积技术

NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统机制:

PLD的系统设备简单,相反,它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时,激光与物质之间的所有物理相互作用,亦包括等离子羽状物的形成,其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移,及zui后的膜生成过程。所以,PLD一般可以分为以下四个阶段:

1. 激光辐射与靶的相互作用

2. 熔化物质的动态

3. 熔化物质在基片的沉积

4. 薄膜在基片表面的成核(nucleation)与生成

在*阶段,激光束聚焦在靶的表面。达到足够的高能量通量与短脉冲宽度时,靶表面的一切元素会快速受热,到达蒸发温度。物质会从靶中分离出来,而蒸发出来的物质的成分与靶的化学计量相同。物质的瞬时溶化率大大取决於激光照射到靶上的流量。熔化机制涉及许多复杂的物理现象,例如碰撞、热,与电子的激发、层离,以及流体力学。

在第二阶段,根据气体动力学定律,发射出来的物质有移向基片的倾向,并出现向前散射峰化现象。空间厚度随函数cosnθ而变化,而n>>1。激光光斑的面积与等离子的温度,对沉积膜是否均匀有重要的影响。靶与基片的距离是另一个因素,支配熔化物质的角度范围。亦发现,将一块障板放近基片会缩小角度范围。

第三阶段是决定薄膜质量的关键。放射出的高能核素碰击基片表面,可能对基片造成各种破坏。下图表明了相互作用的机制。高能核素溅射表面的部分原子,而在入射流与受溅射原子之间,建立了一个碰撞区。膜在这个热能区(碰撞区)形成后立即生成,这个区域正好成为凝结粒子的zui佳场所。只要凝结率比受溅射粒子的释放率高,热平衡状况便能够快速达到,由於熔化粒子流减弱,膜便能在基片表面生成。

NPD-4000(A)全自动PLD脉冲激光沉积系统概述:该系统为PC计算机全自动控制的立柜式系统,具有占地面积小、性价比高的优点。占地面积尺寸为26"x42"x44"。不锈钢立柜,带Auto Load/Unload自动上下载片功能,带预真空锁。

主要优点:

1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性;

2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀;

3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制;

4. 发展潜力巨大,具有极大的兼容性;

5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。

 

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

扫一扫

欢迎关注我们网站平台

联系我们

名称:德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

电话: 86-21-59250080

邮箱:chenliu_0902@163.com

传真: 86-21-59250080

邮编:

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司(www.first-nano.com)主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。
网站地图 ICP备案号:化工仪器网 制作维护

联系人
  • 刘先生

    86-21-59250080

在线客服