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NMC-3000 PAMOCVD系统

简要描述:NMC-3000 PAMOCVD系统:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制。

产品型号:

所属分类:PA-MOCVD等离子辅助

更新时间:2017-03-03

厂商性质:生产厂家

详情介绍

等离子辅助MOCVD技术

NMC-3000 PAMOCVD系统概述:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,*的安全互锁。

目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

NMC-3000 PAMOCVD系统应用:Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

特点:

  • 台式系统
  • 5个带独立冷却槽的起泡器
  • 加热的气体管路
  • 950 °C样品台,2"晶圆片
  • 3个气体环
  • RF等离子源,带淋浴头气体分布
  • 工艺完成后N2自动冲洗
  • 极限真空5x10-7Torr
  • 260 l/s的涡轮分子泵串接无油干泵
  • 通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
  • 菜单驱动,4级密码访问控制
  • 完整的安全联锁

 

 Features:

  • Table Top System 
  • ive Bubblers with Individual Cooling Baths
  • Heated Gas Lines
  • 950 °C Platen, 2" Wafer
  • Three Gas Rings
  • RF Plasma Source with Shower Head Gas Distribution
  • N2 Flush after Process
  • 5x 10-7 Torr Base Pressure
  • 250 l/sec Turbomolecular Pump with Oil Free Scroll Pump
  • PC Controlled with LabVIEW
  • Recipe Driven, Password Protected
  • Fully Safety Interlocked

 



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