德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

您当前的位置:>> 首页 >>产品中心 >>Deposition沉积系统 >>Sputter磁控溅射系统 >>NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统
产品中心
打印 字体缩放

NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统的详细资料

磁控溅射技术

NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(zui高可加热到700度)功能,zui大到6"旋转平台,zui大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000(A)带有14"立方形不锈钢腔体,42"的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统产品特点:

  • 不锈钢腔体
  • 260l/s或350l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
  • 13.56MHz300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
  • 晶振夹具具有的<1 Å的厚度分辨率
  • 带观察视窗的腔门易于上下载片
  • 基于LabView软件的PC计算机控制
  • 带密码保护功能的多级访问控制
  • 完全的安全联锁功能
  • 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

选配项:

  • RFDC溅射
  • 热蒸镀能力
  • RFDC偏压(1000V
  • 样品台可加热到700°C
  • 膜厚监测仪
  • 基片的RF射频等离子清洗

应用:

  • 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
  • 光学以及ITO涂覆
  • 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
  • RF射频等离子放电的反应溅射

 

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

扫一扫

欢迎关注我们网站平台

联系我们

名称:德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

电话: 86-21-59250080

邮箱:chenliu_0902@163.com

传真: 86-21-59250080

邮编:

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司(www.first-nano.com)主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。
网站地图 ICP备案号:化工仪器网 制作维护

联系人
  • 刘先生

    86-21-59250080

在线客服