NSC-4000NSC-4000(M)磁控溅射系统
简要描述:NSC-4000NSC-4000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到8“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
产品型号:
所属分类:Sputter磁控溅射系统
更新时间:2017-03-03
厂商性质:生产厂家
详情介绍
磁控溅射技术
NSC-4000NSC-4000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(zui高可加热到700度)功能,zui大到8"旋转平台,zui大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-4000带有13”铝质腔体,4个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,500 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-4000NSC-4000(M)磁控溅射系统产品特点:
- 不锈钢,铝质腔体
- 260或500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
- 13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
- 晶振夹具具有的<1 Å的厚度分辨率
- 带观察视窗的腔门易于上下载片
- 基于LabView软件的PC计算机控制
- 带密码保护功能的多级访问控制
- *的安全联锁功能
选配项:
- 不锈钢腔体
- 热蒸镀能力
- RF、DC溅射
- RF或DC偏压(1000V)
- 样品台可加热到700°C
- 膜厚监测仪
- 基片的RF射频等离子清洗
- 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
应用:
- 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
- 光学以及ITO涂覆
- 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
- 带RF射频等离子放电的反应溅射