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NSC-4000NSC-4000(M)磁控溅射系统

简要描述:NSC-4000NSC-4000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到8“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

产品型号:

所属分类:Sputter磁控溅射系统

更新时间:2017-03-03

厂商性质:生产厂家

详情介绍

磁控溅射技术

NSC-4000NSC-4000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(zui高可加热到700度)功能,zui大到8"旋转平台,zui大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000带有13”铝质腔体,42”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,500 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-4000NSC-4000(M)磁控溅射系统产品特点:

  • 不锈钢,铝质腔体
  • 260500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
  • 13.56MHz300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
  • 晶振夹具具有的<1 Å的厚度分辨率
  • 带观察视窗的腔门易于上下载片
  • 基于LabView软件的PC计算机控制
  • 带密码保护功能的多级访问控制
  • *的安全联锁功能

选配项:

  • 不锈钢腔体
  • 热蒸镀能力
  • RFDC溅射
  • RFDC偏压(1000V
  • 样品台可加热到700°C
  • 膜厚监测仪
  • 基片的RF射频等离子清洗
  • 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

应用:

  • 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
  • 光学以及ITO涂覆
  • 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
  • RF射频等离子放电的反应溅射

 



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