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NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统
NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统:立式自动系统,带有水冷或者加热(Z高可加热到700度)功能,Z大到6“旋转平台,Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统的详细资料
磁控溅射技术
NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(zui高可加热到700度)功能,zui大到6"旋转平台,zui大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-3500(A)带有14"立方形不锈钢腔体,3个2"的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-3500(A)全自动磁控溅射系统产品特点:
选配项:
应用:
德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。
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