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NEE-4000(M)电子束蒸发系统的详细资料

电子束蒸发技术

NEE-4000(M)电子束蒸发系统概述:NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,其中样品台位于主腔体内,二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的情况下,实现基片通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。在需要自动装/卸载基片时,他可以通过第三方的预真空锁来实现,这可以设置于立方体的左侧。通过PC计算机控制,系统可以提供多电子束源的共蒸发能力,以及对组分或组分梯度进行编程的能力。

NEE-4000(M)电子束蒸发系统特点:

  • 顺序蒸发或共蒸发
  • 双电子束源
  • 多凹槽电子枪
  • 可编程电子束扫描
  • 10KW开关电源
  • 涡轮分子泵,极限真空5x10-7Torr
  • 手动上下载片,带预真空锁
  • 材料和衬垫更换非常方便
  • 晶振式膜厚监测仪
  • 通过LabView软件实现PC计算机控制
  • 菜单驱动,四级访问密码保护
  • 完全的安全联锁

Features:

  • Sequential or Co-Evaporation 
  • Dual E-Beam Source 
  • Multi-Pocket E-Gun 
  • Programmable Beam Scan
  • 10 KW Switching Power Supply  
  • Turbomolecular Pump, 10-7Torr  
  • Manual Load/Unload w/Load Lock  
  • Easy Material and Liner Change
  • Crystal Thickness Monitor 
  • PC Controlled with LabVIEW 
  • Recipe Driven, Password Protected  
  • Fully Safety Interlocked 

 

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