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NEE-4000E-Beam电子束蒸发系统的详细资料

NEE-4000E-Beam电子束蒸发系统

NEE-4000E-Beam电子束蒸发系统概述:

    NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,其中样品台位于主腔体内,二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间带有门阀作为预真空锁,使电子束源腔体保持真空的情况下,通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。在需要自动装/卸载基片时,可以通过第三方的预真空锁来实现。通过PC计算机控制,系统可以提供多电子束源的共蒸发能力,以及对组分或组分梯度进行编程的能力。

产品特点:

  • 顺序蒸发或共蒸发
  • 双电子束源
  • 多凹槽电子枪
  • 可编程电子束扫描
  • 10KW开关电源
  • 涡轮分子泵,极限真空5x10-7Torr
  • 手动上下载片,带预真空锁
  • 自动上下载片
  • 材料和衬垫更换非常方便
  • 晶振式膜厚监测仪
  • 通过LabView软件实现PC计算机控制
  • 菜单驱动,四级访问密码保护

产品型号:

  • NEE-3500:计算机全自动控制的紧凑型独立系统
  • NEE-4000:计算机全自动控制的独立系统

 

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

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