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NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统

简要描述:NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统:针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制。

产品型号:

所属分类:PA-MOCVD等离子辅助

更新时间:2017-03-03

厂商性质:生产厂家

详情介绍

等离子辅助MOCVD技术

NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统概述:NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,*的安全互锁。

目前,这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统应用:Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

特点:

  • 独立系统
  • 14"不锈钢立方体腔体
  • 1次在8"样品台上处理16"晶圆片或在12"样品台上处理54"片子
  • 加热的气体管路
  • RF等离子源,自动调谐
  • 淋浴头气体分布
  • 1100°C的旋转样品台
  • N2冲洗
  • 全自动上下载片
  • 可以兼容到集群配置中

 Features:

  • Stand Alone System
  • 14" Stainless Steel Cube Chamber
  • One 6" Wafer with 8" Platen or five 4" Wafers on 12" platen
  • Heated Gas Lines
  • RF Plasma Source with Auto Tuner
  • Shower Head Gas Distribution
  • 1100 °C Platen, Rotating
  • N2 Flush
  • Automatic wafer Loading and Unloading 
  • Compatible with Cluster

 



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