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NTE-4000(M)热蒸发系统的详细资料

热蒸发镀膜

NTE-4000(M)热蒸发系统概述:NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统,在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。它们具有低价格, 高性能以及高能力的特点,可满足于客户研发及小规模生产的应用要求。 NTE-3000热蒸发系统可以在设定的RMS电流下,或者在闭环的配置下操作,并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。

NTE-4000(M)蒸发系统是一个台式系统,跟我们的溅射系统共享一个共同的平台;比如:橱柜,腔体,真空系统,计算机控制架构等方面都是一样的。*的区别是一个使用磁控管,另一个使用加热坩埚因此,在我们溅射系统上的许多技术同样适用到我们的热蒸发系统中,比如:样品台的加热,旋转,偏斜;涂覆前的等离子清洗,膜厚监测,序列或同时操作多源;钟罩、铝或不锈钢腔体;预真空锁以及自动装片/取片系统等。

NTE-4000NSC-4000很像除了样片台是在顶部并且样片是面朝下固定。因为有许多的共同点,我们可以提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-4000),具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统,我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力,这样可以充分利用溅射和蒸发技术,而无须中断真空

Nano-Master的蒸发系统的另一大独特优势是持续性地控制加热器电流,而不是震荡式控制加热器。系统装配固态电流控制电路,这点跟许多系统采用的自藕变压器不同。在该系统中,电流或者RMS值的持续时间被控制。用户可以选择一个设定值,它实际上是设定交流电半周期的部分,会出现跟钨加热器电线的交叉。这样,系统可以实现精确快速的电流控制,这使得闭环温度控制就可以实现。此外,电流控制以及温度控制,可以满足蒸发的苛刻要求,无论是对有机材料还是对金属。我们测量坩埚TBRMS电压,RMS电流,和温度,并通过热电偶TC跟坩埚底部接触的方式测量温度。空坩埚的加热实验结果如下图所示,这些加热实验结果是在208V线电压下进行的。电流和电压(没有显示)通过RMS仪表测量。

通过以上的温度与电流的关系,我们可以设定并控制电流以达到坩埚内想要的温度,温度可以通过热电偶来测量。材料防止在坩埚中热损失和加热时间的常量将会发生变化,然而坩埚内的温度和热电偶的测量值之间的关系将不会变化。因此,我们的技术可以实现坩埚内的温度不依赖于大部分放入的材料,甚至不受线电压值的影响。

NTE-4000(M)热蒸发系统产品特点:

  • zui大可支持7"的方片或200mm的晶圆片
  • 沉积速度可控
  • 旋转的样品台
  • 双坩埚
  • 2KVA SRC控制电源
  • 晶振式膜厚监控仪
  • 通过LabView软件实现PC计算机控制

相似产品型号:

  • NTE-4000  基于PC计算机全自动控制的独立系统
  • NTE-3500  基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立系统
  • NTE-3000  基于PC计算机全自动控制的双蒸发源台式系统
  • NTE-1000  计算机控制的单蒸发源台式系统

 

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