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NIE-3000IBE离子束刻蚀的详细资料

IBE离子束刻蚀

NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述:该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。

NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点:

  • 低成本
  • 离子束:高达2KV/10mA
  • 离子电流密度100-360uA/cm2
  • 离子束直径:4",5",6"
  • 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
  • 极限真空5x10-7Torr
  • 260l/s涡轮分子泵,串接500 l/min干泵
  • 14"不锈钢或铝质腔体
  • 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
  • 自动上下载片(NIE-3500)
  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
  • 占地面积30"x30"

产品应用:

  • 表面处理
  • 离子铣
  • 表面清洗
  • 带活性气体的离子束刻蚀:  光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀

 Features:

  • Low Cost
  • Ion Beam: Up to 2KV/10mA  
  • Ion Current Density 100-360 µA/cm2 
  • Ion Beam Size: 4", 5", 6"
  • Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) 
  • Base Pressure 5x10-7 Torr 
  • 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump
  • 14" SS or Al Chambers
  • Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)
  • Auto Load and Unload (NIE-3500)
  • PC Controlled with LabVIEW Software
  • Footprint 30"x30"

 Applications:

  • Surface Cleaning 
  • Surface Treatment 
  • Ion Beam Milling
  • Ion Beam Etching with Reactive Gases:
          Grating
          Deep Trenches on SiO2, Si and metals

 

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