Harrick基本型等离子清洗机

等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子表面处理机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。

基本型等离子清洗机广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。

基本型等离子清洗机应用：

1. 高分子材料表面修饰。

2. 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。

3. 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。

4. 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。

5. 清洗半导体元件、印刷线路板。

6. 清洗生物芯片、微流控芯片。

7. 清洗沉积凝胶的基片。

8. 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。

9. 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。

10. 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的

粘和力。

基本型等离子清洗机主要特点：

1. 紧凑台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。

2. 功率为低、中、高三档可调。

3. 基本型：

- 清洗腔：长6.5英寸，直径3英寸,腔盖可拆卸；

- RF线圈zui大施加功率18W；

- 1/8NPT针孔阀控制气流及腔体压力；

- 整机尺寸：8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D；

- 重量：13 lbs；

4. 选配件

- 石英等离子清洗腔；

- 气体流量混合器；

- 真空泵；

参考客户：

兰州大学  郑州大学 上海交通大学 上海复旦大学 合肥工业大学 成都电子科技大学 北京大学  清华大学

医工所  兰州化物所 中科院纳米所 等等

我公司专业销售Harrick Plasma产品，并提供Harrick Plasma产品的售前售后服务，如您对Harrick Plasma产品感兴趣，欢迎前来咨询！German First-Nano System （HK）Limited