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EFC270蚀刻残留物去除剂的详细资料

 

 

杜邦™plasmasolv®ekc265™蚀刻后残留物去除            

特点:

制定zui jia的金属堆栈完整性  

“改进”宽窗口处理能力

强化蚀刻残余物去除

清洗的掩膜减少化学残留

超大规模集成电路(ULSI)级规格先进封装清洗

工作温度下蒸发速率低

 

应用:        

应用EKC265™蚀刻后残留物器广泛应用在半导体行业,以满足关键的清洁需求            

从高深宽比MEMS器件100μm+ 到先进DRAM 的70nm集成的各个阶段

下面列出了常见的应用程序: 

  • 接触清洁            

  • 金属线清洁

  • TSV深硅穿孔清洁           

  • 钨埋位线清洗            

  • 聚酰亚胺清洗            

  • Pad清洁            

  • MEMS清洗

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

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