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EFC265刻蚀残留物去除剂的详细资料

杜邦™plasmasolv®ekc265™蚀刻后残留物去除      

   

 应用:        

应用EKC265™蚀刻后残留物器广泛应用在半导体行业,以满足关键的清洁需求            

从高深宽比MEMS器件100μm+ 到先进DRAM 的70nm集成的各个阶段

下面列出了常见的应用程序: 

  • 接触清洁            

  • 金属线清洁

  • TSV深硅穿孔清洁           

  • 钨埋位线清洗            

  • 聚酰亚胺清洗            

  • Pad清洁            

  • MEMS清洗

 

特征:

  • 所有蚀刻后铝清洗的单一解决方案

  • 清洗接触,金属,穿孔和Pad

  • 高度选择性的残留物去除

  • 去除重有机残留物

  • 宽工艺窗口

  • 高产率 

  • 穿孔接触电阻降低

  • 铝清洗行业基准

 

 

应用:        

应用EKC265™蚀刻后残留物器广泛应用在半导体行业,以满足关键的清洁需求            

从高深宽比MEMS器件100μm+ 到先进DRAM 的70nm集成的各个阶段

下面列出了常见的应用程序: 

  • 接触清洁            

  • 金属线清洁

  • TSV深硅穿孔清洁           

  • 钨埋位线清洗            

  • 聚酰亚胺清洗            

  • Pad清洁            

  • MEMS清洗

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

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