欢迎您来到德国韦氏纳米系统(香港)有限公司网站!
产品中心 / products 您的位置:网站首页 > 产品中心 > Ethcing/等离子蚀刻系统 > 等离子刻蚀ICP > Minilock-Phantom III ICP等离子刻蚀Minilock-Phantom III ICP
相关文章

Related articles

等离子刻蚀Minilock-Phantom III ICP

简要描述:Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机

产品型号: Minilock-Phantom III ICP

所属分类:等离子刻蚀ICP

更新时间:2019-01-17

厂商性质:生产厂家

详情介绍

 

 

Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机

可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供xian jin的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。

 

系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜,如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。该反应室还可以用于去除光刻胶和有机材料。可选配静电吸盘(E-chuck),以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。该E-chuck使用氦压力控制器,及在基片背面保持一个氦冷却层,从而达到控制基片温度的作用。
该设备可选配一个电感耦合等离子(ICP)源,其使得用户可以创建高密度等离子,从而提高刻蚀速率和各向异性等刻蚀性能。
基片通过预真空室装入。其避免与工艺室以及任意残余刻蚀副产品接触,从而提高了用户安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而隔绝外部湿气,防止反应室内可能发生的腐蚀。



留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
18721247059

联系我们

contact us

咨询电话

400-9999-18518721247059

扫一扫,关注我们

返回顶部