德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

您当前的位置:>> 首页 >>产品中心 >>Ethcing/等离子蚀刻系统 >>等离子刻蚀ICP >>Minilock-Phantom III ICP等离子刻蚀Minilock-Phantom III ICP
产品目录

产品搜索:
请在下列输入框内输入您要查找的产品名称。

产品中心
打印 字体缩放

Minilock-Phantom III ICP等离子刻蚀Minilock-Phantom III ICP的详细资料

 

 

Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机

可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最xian jin的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。

 

系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜,如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。该反应室还可以用于去除光刻胶和有机材料。可选配静电吸盘(E-chuck),以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。该E-chuck使用氦压力控制器,及在基片背面保持一个氦冷却层,从而达到控制基片温度的作用。
该设备可选配一个电感耦合等离子(ICP)源,其使得用户可以创建高密度等离子,从而提高刻蚀速率和各向异性等刻蚀性能。
基片通过预真空室装入。其避免与工艺室以及任意残余刻蚀副产品接触,从而提高了用户安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而隔绝外部湿气,防止反应室内可能发生的腐蚀。

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

扫一扫

欢迎关注我们网站平台

联系我们

名称:德国韦氏纳米系统(香港)有限公司

电话: 86-21-59250080

邮箱:chenliu_0902@163.com

传真: 86-21-59250080

邮编:

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司(www.first-nano.com)主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。
网站地图 ICP备案号:化工仪器网 制作维护

联系人
  • 刘先生

    86-21-59250080

在线客服