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SWC-4000单晶圆兆声清洗机的详细资料

SWC-4000兆声晶圆清洗

SWC-4000兆声晶圆清洗机应用:

  • 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
  • Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
  • CMP处理后的晶圆片清洗
  • 晶圆框架上的切粒芯片清洗
  • 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
  • 带保护膜的分划版清洗
  • 掩模版空白部位或接触部位清洗
  • X射线及极紫外掩模版清洗
  • 光学镜头清洗
  • ITO涂覆的显示面板清洗
  • 兆声辅助的剥离工艺

SWC-4000兆声晶圆清洗机的特点:

  • 支持12"直径的圆片或9"x9"方片
  • 独立系统
  • 无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干
  • 微处理机自动控制
  • 化学试剂滴胶单元
  • 溶剂与酸分离排废
  • 热氮
  • 30"D x 26"W 的占地面积

SWC-4000兆声晶圆清洗机选配项:

  • 掩模板或晶圆片夹具
  • 臭氧清洗
  • PVA软毛刷清洗
  • 高压DI清洗
  • 氮气离子发生器

客户可以根据基板尺寸的大小订制不同的兆声清洗系统,如有技术咨询,请及时:

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

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