欢迎您来到德国韦氏纳米系统（香港）有限公司网站！
产品中心 / products 您的位置：网站首页 > 产品中心 > Megasonic Clean /兆声清洗系统 > 单片晶圆兆声清洗机 > SWC-4000单晶圆兆声清洗机
产品中心

product center

相关文章

Related articles

单晶圆兆声清洗机

简要描述：兆声晶圆清洗机：
First-Nano 兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

产品型号： SWC-4000

所属分类：单片晶圆兆声清洗机

更新时间：2017-07-12

厂商性质：生产厂家

留言询价联系我们
详情介绍

SWC-4000兆声晶圆清洗：

SWC-4000兆声晶圆清洗机应用：

  • 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
  • Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
  • CMP处理后的晶圆片清洗
  • 晶圆框架上的切粒芯片清洗
  • 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
  • 带保护膜的分划版清洗
  • 掩模版空白部位或接触部位清洗
  • X射线及极紫外掩模版清洗
  • 光学镜头清洗
  • ITO涂覆的显示面板清洗
  • 兆声辅助的剥离工艺

SWC-4000兆声晶圆清洗机的特点：

  • 支持12"直径的圆片或9"x9"方片
  • 独立系统
  • 无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干
  • 微处理机自动控制
  • 化学试剂滴胶单元
  • 溶剂与酸分离排废
  • 热氮
  • 30"D x 26"W 的占地面积

SWC-4000兆声晶圆清洗机选配项：

  • 掩模板或晶圆片夹具
  • 臭氧清洗
  • PVA软毛刷清洗
  • 高压DI清洗
  • 氮气离子发生器

客户可以根据基板尺寸的大小订制不同的兆声清洗系统，如有技术咨询，请及时：



留言框

  • 产品：

  • 您的单位：

  • 您的姓名：

  • 联系电话：

  • 常用邮箱：

  • 省份：

  • 详细地址：

  • 补充说明：

  • 验证码：

    请输入计算结果（填写阿拉伯数字），如：三加四=7

上一篇：NPD-4000（M）NPD-4000（M）PLD脉冲激光沉积系统
下一篇：SWC-3000单片晶圆兆声清洗机

联
系
我
们