光刻曝光分析仪

45年来，OAI始终是紫外能量测试仪器领域的全球应用商，其仪器用于半导体、微机电系统、晶圆封装和晶圆植球行业中光刻工艺的可靠，精确校准控制。

Model 659是一款手持式紫外功率计，配有触摸屏和 USB 接口。通过使用特殊探头（365nm、400nm、420nm 和 436nm），可以测量主要用于步进应用的宽范围波长。

             ●  多达400个曝光参数

             ●  以太网和USB接口，用于下载记录的测量值

             ●  强度范围达7500mW/cm2

             ●  强度分辨率：0.01mW/cm2

             ●  探头波长：365nm、400nm、420nm、436nm

Model 659 型曝光分析仪，与晶圆步进光刻机配合使用，专为Ultratech Stepper等高强度光刻设备而设计（读数高达7500mW/cm2,1000000mJ/cm2'',最长9999秒）。可选择探头光谱响应：365nm、400nm、420nm或436nm.

        OAI拥有完整的认证校准实验室，以确保仪器的性能，质量，和可靠性。Model 659 可追溯至NIST标准。