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NXQ4000紫外掩膜对准曝光系统的详细资料

 

美国NXQ以卓越的性能,经济的价格,深受全球用户喜爱,截至2016年底,超过5000台NXQ曝光系统遍布全世界科研实验室,研发中心。

 

NXQ4000系列半自动掩膜对准曝光系统,融合了独立的模块化设计,精准控制对准和曝光等特点,自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用,适合实验室多用户使用。

该系统特点:

  • 锲型误差补偿系统----独特的WEC设计

  • 紫外灯源的多样性选择

  • 曝光光路的精准控制

  • 视像分辨技术------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切换

  • 高效对准控制-----可选配IR或OBS双面对准

 

使用领域(包括但不限于下述领域的光刻工艺)

德国韦氏纳米系统(香港)有限公司主要供应等离子清洗机,基本型等离子清洗机,扩展型等离子清洗机,高功率等离子清洗机等产品。

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