将热重分析质谱仪与质谱仪联用可以检测到非常低含量的杂质，这一手段越来越受欢迎。通过热重加热样品，样品会因挥发物的存在或者燃烧分解出气体，这些气体被传输到质谱仪中，加以识别。由于质谱可以检测材料非常低的含量，TG-MS联用成为质量控制、产品安...

光学接触角测量仪采用现代化工艺制造，仪器采用先进的CCD数字摄像机，配倍高分辨率变焦式显微镜和高亮度LED背景光源系统，搭配三维样品台，可进行工作台上下、左右、前后等方向移动。实现微量进样及上下精密移动。同时还设计了伸缩杆结构工作台，能适应...

匀胶显影系统具有可编程阀，它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻、显影和清洗应用的要求重复进行，如冲洗（通常是去离子水或溶剂），然后干燥（通常是氮气）等后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在*干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的...

光学接触角测量仪可以记录液滴图像并且自动分析液滴的形状。液滴形状是液体表面张力、重力和不同液体样品的密度差和湿度差及环境介质的函数。在固体表面上，液滴形状和接触角也依赖于固体的特性（例如表面自由能和形貌）。使用液滴轮廓拟合方法对获得的图像进...

PDC-002等离子清洗机是一种小型化、超清洗设备。等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表...

匀胶旋涂机的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，甩胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。匀胶旋涂机机身采用全工程塑料制作，...

Harrick等离子清洗机采用电感耦合高密度等离子体(ICP)，能快速去除晶圆上之残留光阻(光刻胶)，达到晶圆表面洁净，Harrick等离子清洗机具有蚀刻率高，无电极污染，离子能量低，不损伤基板等优点。Harrick等离子清洗机的结构组成，...

匀胶旋涂机工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，匀胶旋涂机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。可以设定多达20个程序段来存储不...

微波等离子去胶机概述：Q系列等离子清洗机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为计算机全自动控制的系统。典型工艺包含：大剂量离子注入后的光刻胶去除；干法刻蚀工艺的前处理...

PDC-002等离子清洗机是一种小型化、超清洗设备。该款等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。这款等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体...