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LSC-5000LSC-5000大基片单晶圆全自动兆声清洗系统的详细资料

LSC-5000全自动兆声大基片湿法刻蚀系统概述:

技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得zui干净的晶圆片和掩模版。

German First Nano System提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到zui优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。German Fisrt Nano System 技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的zui大化支持zui理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。

LSC-5000全自动兆声大基片湿法刻蚀系统应用:

湿法刻蚀
硅片
蓝宝石片
圆框架上的芯片
显示面板
ITO涂覆的显示屏
带保护膜的分划版
掩模版空白部位
掩模版接触部位
带保护膜/不带保护膜的掩模版
LSC-5000全自动兆声大基片湿法刻蚀系统的特点:

支持450mm直径的圆片或15"x15"方片
带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体
带化学试剂滴胶的刷子转速可调节
带LABVIEW软件的PC全自动控制
触摸屏用户界面
机械手上下载片,带EFEM以及SMIF界面
安全互锁及警报装置
30"D x 26"W 的占地面积  
LSC-5000全自动兆声大基片湿法刻蚀系统选配项:

化学试剂传输模块
Piranha溶液清洗                                       
臭氧化DI水(20ppm的O3)
氢化的DI水
高压DI水
热DI水
溶剂和酸分离排放
IR红外加热
DI水循环机
耐火立柜

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